Polysilizium-Diraktionsverfestigungsofen
Anwendung
Diese Anlage wird zur Herstellung von Solarzellenblöcken und zur Raffination von Halbleitermaterialien eingesetzt. Sie findet breite Anwendung bei der Produktion von silber- und kobaltbasierten Hochtemperaturlegierungen. Die daraus gefertigten hochwertigen Produkte werden häufig in der Luft- und Raumfahrtindustrie (Turbinentriebwerke), im Fahrzeugbau, in der Biomedizin, in der Chemie und in der Unterhaltungsindustrie verwendet.
Merkmale
Hohe Regelgenauigkeit, freie Einstellung der Kristallisationsgeschwindigkeit, des Graphitwiderstands oder des Induktionsschmelzverfahrens, verbesserte Schmelzrührung und hohe Schmelzgeschwindigkeit. Ein spezielles Heiznetzteil sorgt für die Wärmespeicherung bei gerichteter Erstarrung, einen symmetrischen Dreiphasenstrom und geringe Wartungskosten. 148 Heizprozesskurven können mit einem Konstanttemperaturregler eingestellt werden. Der Ofenkörper ist mit einem Hochvakuumofen ausgestattet, der ein hohes Vakuum und eine hohe Pumpgeschwindigkeit ermöglicht.
Technische Parameter
| Schmelzkapazität | 10-450 kg |
| Leistung | 40-450 kW |
| Auslegungstemperatur | 1700℃ |
| Arbeitstemperatur | 1450℃ |
| Temperaturanstiegsrate | 40℃/min |
| Ofentemperaturgleichmäßigkeit | +5℃ |
| Begrenztes Vakuum | 6,67*10-2Pa |
| Druckanstiegsrate | 0,01 PaL/S |
| Bewerteter Inflationsdruck | 0,05 MPa |
| Gussblockverfahren | gerichtete Erstarrung mit fallendem/haltendem Tiegel und Ofenhebung |
| Servo-Regelbereich | 0,01 mm–0,5 mm/Min. |
| Crucible schnelle Rücklaufgeschwindigkeit | 80–100 mm/min |
Detailzeichnung











